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簡要描述：加氫除氧型氮氣純化裝置純氣含過量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。原理簡單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新時間：2021-03-09訪 問 量：1264 產(chǎn)品分類
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| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè) |
加氫除氧型氮氣純化裝置原理；
O2 + H2 ----- HO2
利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理，在氮氣中加入氫氣，混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng)，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮氣。
加氫除氧型氮氣純化裝置特點：
● 純氣含過量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。
● 原理簡單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低
● 氣體指標溫度，雜質(zhì)含量低
● 可選配自動系統(tǒng)，實現(xiàn)無人值守
● 應(yīng)用范圍廣，對原料氣無特殊要求
技術(shù)指標：
普通氮氣：
● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr
高純氮氣：
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點——≤－70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10～5000Nm3/hr
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